هدف مس

اهداف مس منابع کندوپاش جامد هستند که از مواد مس با خلوص بالا ساخته شده اند. آنها عمدتاً برای پوشش پاششی در فرآیندهای رسوب بخار فیزیکی (PVD) و رسوب فیلم های مسی با کارایی بالا بر روی سطوح زیرلایه استفاده می شوند.

1. خلوص فوق العاده بالا: خلوص مواد هسته به شدت در 99.999٪ (5N) تا 99.9999٪ (6N) کنترل می شود. این خلوص بسیار زیاد خطر ورود ناخالصی‌ها به فیلم را به حداقل می‌رساند و تضمین می‌کند که فیلم‌های رسوب‌شده دارای رسانایی الکتریکی و حرارتی عالی، شکل‌پذیری و پایداری هستند و نیازهای سختگیرانه نیمه‌رساناهای پیشرفته، نمایشگر و پوشش‌های نوری دقیق را برآورده می‌کنند.
2. ابعاد و وزن قابل تنظیم: ما خدمات قابل تنظیم ارائه می دهیم. بر اساس مشخصات محفظه تجهیزات کندوپاش مشتری و الزامات فرآیند خاص، ما می توانیم اهداف مسی را به صورت سفارشی با حداکثر اندازه و وزن مورد نیاز تولید کنیم و به کارایی پوشش و استفاده بهینه از مواد دست یابیم.
3. بسته بندی قوی: حفاظت سه گانه حمل و نقل ایمن را تضمین می کند:
حفاظت از هسته: ماده مورد نظر در دو لایه در خلاء بسته بندی می شود تا به طور موثر رطوبت هوا را جدا کند، از اکسیداسیون جلوگیری کند و از آلودگی سطح جلوگیری کند.
4. محافظت از بالشتک: بسته بندی خلاء با مواد بالشتکی فوم مرواریدی با کارایی بالا (EPE) پر شده است تا شوک و لرزش را جذب کند و از آسیب فیزیکی جلوگیری کند.
5. تقویت جعبه بیرونی: بیرونی ترین لایه در یک جعبه چوبی محکم محصور شده است که پشتیبانی ساختاری قوی و مقاومت در برابر ضربه های خارجی را فراهم می کند و حمل و نقل جهانی ایمن را تضمین می کند.
6. کاربرد اصلی: طراحی شده برای فرآیندهای پوشش دهی مانند کندوپاش مگنترون و کندوپاش پرتو یونی. در یک محیط خلاء بالا، ذرات پر انرژی مواد مورد نظر را بمباران می کنند و اتم های مس را از سطح هدف پراکنده می کنند. این اتم‌ها سپس روی بسترها (مانند ویفرهای سیلیکونی، شیشه‌ها و لایه‌های پلیمری) رسوب می‌کنند و یک فیلم مسی یکنواخت، متراکم و بسیار چسبنده را تشکیل می‌دهند.